一、___ 用途及特点
1.___ 为单室立式结构的高真空多功能真空镀膜设备，射频磁控溅射真空镀膜、直流磁控溅射真空镀膜的组合，既能满足各类膜层的实验研究，又能减少射频辐射的机会，当溅射金属材料时，可采用直流磁控溅射真空镀膜;当溅射非金属材料时,可采用射频磁控溅射真空镀膜.
2.___ 可真空镀膜膜层:金属单质膜(如Al、Ni)、合金膜、氮化物膜、碳化物膜、氧化物膜、其它非金属化合物膜.
二、___ 主要技术指标和外部设施要求
(一)___ 技术指标:
1.____ 真空镀膜室型式:_ 立式圆筒形、间歇工作
2.__ _ 真空镀膜室尺寸:_ φ600×400
3.___ 极限真空度:__ 5×10-3Pa
4.___ 压升率:______ ≤2Pa/h
5.___ 靶数量:___ ___ 2个
6.___ 靶功率:______ 单靶2KW
7.___ 加热温度:____ 室温~150℃
8.___ 工件最大尺寸: 垂直方向最大尺寸≤100mm
9.___ 总功率:______ 25KW
（二）外部设施要求: (用户自备)
1.___ 电源: 380V
2.___ 气源:
压缩空气: 净化干燥,使用压力0.4~0.6Mpa
高纯氩气: 99.999%
高纯氮气: 99.999%
其它气体
3.冷却用水
压力: 1.5~2.5Kg/cm2、水温＜20℃
__ 4.占地面积: 20m2
三、___ 主要组成部分:真空镀膜室、真空系统、充气系统、气动系统、水路系统、电控系统
1.真空镀膜室
真空镀膜真空室体、靶装置、传动系统、加热器、观察窗、靶挡板机构、隔热屏、放气阀.
1).真空镀膜室体:为立式园筒形侧开门不锈钢结构.
2).靶装置:靶体及其零部件、磁体、屏蔽罩
________ 靶型式:园形平面靶
________ 靶面有效尺寸:φ120
________ 靶位排布:侧面对放
________ 靶特点:采取2个同心环磁体,每个同心环均由若干个磁柱
组成环状,可拓宽靶刻蚀区和改善靶原子的沉积分
布,从而提高膜厚的均匀度.
靶-基距:靶与基片的距离为50~80连续可调
3).传动系统:电机、主轴、密封箱、轴承、水冷箱等等._____________________________________
4).加热器:_ 管状加热器
2.真空系统:______________________________________
____ 扩散泵:_ K-200T_______ _________
________ 罗茨泵:_ ZJ-30________