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  • 光发射电子显微镜是九十年代左右发展起来的一种新的表...

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    PEEM处于正高压.样品距PEEM孔约4～6mm;要求样品表面法线与PEEM中心线偏离小于等于0.3 ,绝不能超过4 .平整样品表面的PEEM图象是一种表面光电子产率的二维成像.当用...

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